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一般排氣 (GEX)係統（tǒng）也稱為熱排氣係統，生產過程中一些（xiē）設（shè）備局部會（huì）產生大量的熱或產生會對高潔淨度生產環境造成影響的含塵無害氣體。為了滿足半導體製程（chéng）對環境溫濕度((22±1)℃，(45±5)％)和潔淨度的極高要求，可將此種廢氣通過風管係統進（jìn）行收集，然後以風機抽取（qǔ）並排放。雖然一般排氣用於抽（chōu）取設備的含塵排放（fàng），但由於一般排氣係統抽取的氣體直（zhí）接（jiē）來（lái）自潔淨室內，且設備含塵（chén）排放濃度很低，因此在（zài）總風管處檢測的結果仍為潔淨級別，屬於室溫範圍。因此 GEX可以（yǐ）直接排放至（zhì）大氣環境，不需做任何處理，為無害排放。

2、酸堿廢氣處理係統：

半導體製（zhì）造中產生的酸性和堿（jiǎn）性廢氣采用（yòng）分別收集、分別處理（lǐ）的方法，處理（lǐ）設備和處理原理基本相同。對於含有酸（suān）性／堿性物質的廢氣，大都采用大型洗滌式中央廢氣處理係統進行處理。由於半（bàn）導體製造工作區域離中央廢氣處（chù）理係統距離（lí）較（jiào）遠，因此部分（fèn）酸性／堿性廢氣在輸送至中央廢氣處理係統（tǒng）前，常因（yīn）氣體特性導致在（zài）管（guǎn）路中結晶或粉塵堆積，造成管路堵塞後導致氣體外泄，嚴重者（zhě）甚至引發爆炸，危害現場工作人員的工作安全。因此在（zài）工作區域需配置適（shì）合（hé）製程氣體特性的就地廢氣處理設備（bèi）進行就地處理，之後再排入中央（yāng）處理係統，而一些特殊（shū）的廢氣（qì），包括劇毒、自燃、易爆等廢氣則需要先通過幹式洗滌（dí）塔（tǎ）等設備通過吸附或氧（yǎng）化／燃燒（shāo）等方法就（jiù）地處理，之後再（zài）排人中央廢（fèi）氣處（chù）理係統。

3、有機廢氣處理係統：

半導體製造過程中排放的含有有（yǒu）機成分的廢氣通常采用直接焚燒、活性炭吸附、生物（wù）氧化等方（fāng）法進行處理。隻（zhī）有（yǒu）較高濃度的有（yǒu）機廢氣才建議直接焚燒；活性（xìng）碳吸附的方法，隻有極低濃度的有機廢氣才建議使用。但（dàn）由（yóu）於（yú）其（qí）材料特性，存在易（yì）燃燒、水分敏感度高、脫（tuō）附後殘留負荷（hé）高等缺點，中高濃度基（jī）本不再使用；半導體製造的有機廢氣排放特點（diǎn）是濃度較低，但排風量較大，因此必須考慮將有機廢氣濃縮後再進行焚燒處理。沸（fèi）石濃縮轉輪係統和焚化爐焚化係統的組合可以很好地解決這一問題。

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