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一般排气 (GEX)系统（tǒng）也称（chēng）为热排气系统，生产过程（chéng）中一些设备局（jú）部会产生（shēng）大量的热或产生会对高洁净（jìng）度生（shēng）产（chǎn）环境造成影响的含尘无害气体。为了满足半导（dǎo）体制（zhì）程对环（huán）境温湿度((22±1)℃，(45±5)％)和（hé）洁净度的极高要求，可将此种废（fèi）气通过风管系统进行收集（jí），然后以风机抽取并排放。虽然一般排气用于抽取设备的含尘（chén）排放，但由于一般排气系统抽取的（de）气（qì）体直接来自洁净室内，且设备含（hán）尘排放浓度很低，因（yīn）此（cǐ）在总风管处检测（cè）的结果仍为洁净级别，属于（yú）室温范围。因此 GEX可以直接排放至大气环境，不需做（zuò）任何处理，为无害排放。

2、酸碱废气处理系统：

半导（dǎo）体制造中（zhōng）产生的酸（suān）性（xìng）和碱性废气采用分别收（shōu）集、分别处理的（de）方法，处理设（shè）备和处理原理基本相同（tóng）。对于含有酸性／碱性物质的（de）废（fèi）气，大都（dōu）采用（yòng）大型洗涤式中央废气处理（lǐ）系统进行处理。由于半导体制造工作（zuò）区域离中央废气（qì）处理系统距离较远，因此部分酸性／碱性废气在输送至中央废气处理系统前，常因气体特性（xìng）导致在管路中结晶或粉尘（chén）堆积，造成管（guǎn）路堵塞后（hòu）导致气体外泄，严重者甚至引发爆炸，危害现场工作人员的工作安全。因此在工作区域需配置适（shì）合制程气体特性的就地废气处理设备进行就地处理，之后再排入中（zhōng）央处理（lǐ）系统，而（ér）一些特殊的废气，包括剧毒、自燃（rán）、易爆等废气（qì）则需要先（xiān）通过干式洗涤塔等设（shè）备通过吸附（fù）或氧化／燃烧等方法就地处理，之后再排人中央废气处理系统（tǒng）。

3、有（yǒu）机（jī）废（fèi）气处（chù）理系统：

半（bàn）导（dǎo）体制造过（guò）程中排放（fàng）的含有有机成分的废气通常采用直接焚烧、活性炭吸附、生物氧化等方法进行处理。只有较高浓度（dù）的（de）有机废气才建议直（zhí）接（jiē）焚烧；活性碳吸附的方法，只有极低浓度的有机废气才建议使用。但由于其材料特性，存在易（yì）燃烧、水分敏感度（dù）高（gāo）、脱附后残留负荷高等缺点，中高浓（nóng）度基本不再使用；半导体制造的有（yǒu）机废气排放特（tè）点是浓度较低，但排风量较大，因此必须考虑将有机（jī）废气浓缩后再进行焚烧处理（lǐ）。沸石浓缩转轮系统和（hé）焚化（huà）炉焚化系统的组合可以很好地解决这一问题。

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